Systém pokročilých technologií přípravy uhlíkových a křemíkových nanostruktur (nanoCVD)

Dovoluje připravovat tenké vrstvy nano- krystalického diamantu a/nebo křemíku z chemických par v plazmatu pro využití v optoelektronice, nanoelektronice a v bioelektronických aplikacích.

V laboratoři Diamantových vrstev a uhlíkových nano-struktur disponujeme dvěma unikátními depozičními systémy určenými pro technologii mikrovlnnou plazmou podpořená chemická depozice z par. Systém s fokusovanou mikrovlnnou plazmou s elipsoidním rezonátorem se používá na růst nanokrystalických diamantových (NCD) s velikostí krystalků v rozmezí 20-200 nm. NCD vrstvy vykazují optické a elektronické vlastnosti dostatečně kvalitní k realizaci FET tranzistorů nebo jednoduchých senzorových struktur citlivých na plyn jako např. fosgen.
Pulzní mikrovlnný depoziční systém s lineárními anténami umožňuje růst diamantových vrstev nano- nebo polykrystalického charakteru na velkých plochách. Experimentálně se potvrdilo se, že přidáním CO2 k plynné směsi CH4+H2 a změnou pracovního tlaku v rozsahu 6-100 Pa se dokáže kontrolovat nejen velikost zrn ale i případná porozivita formované diamantové vrstvy. Systém se používá pro základní výzkum růstu diamantových vrstev a pro mutli-disciplinárně orientované vědné obory jako růst funkčních substrátů pro tkáňové inženýrství a regenerativní medicínu.

Objednat

Přístrojové vybavení: 
  • MW systém s fokusovanou plazmou (Aixtron)
  • velkoplošní pulzní MW systém s lineárními anténami (Roth & Rau)
  • reaktivní iontové leptání (Trion Phantom LT)
Galerie: